| 題名 |
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| ナノ茶論 第3回 オンラインセミナー |
| 開催日 |
| 令和2年10月29日（木） |
| 時間 |
| 14：00～15：30 |
| 場所 |
| Zoomによるオンライン開催 下記申込フォームよりご登録いただいたメールアドレス宛に、 参加用URL及びパスワード情報をお送りいたします。 ※インターネットに接続できるパソコン等の通信機器をご用意いただく必要があります。 |
| 概要 |
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（発表者） 東京工業大学 創成科学研究院 未来産業技術研究所 情報イノベーション研究コア 半那 純一 名誉教授・研究員 （発表テーマ） 有機半導体材料技術の現状と実用的な高速成膜技術の達成 （紹介文） この10年、Printed Electronics用半導体の最有力候補とされる有機半導体は、大気下・安定で10cm2/Vsを超える高移動度を示す材料がいくつも開発されてきました。しかし、溶液プロセスによる実用的な速度と半導体品質を同時に満たす成膜技術の開発は実用化に向けて残る大きな課題の一つでした。私たちは、有機半導体材料に発現する液晶性を活用し、Roll-to-Roll様式にも適用可能なディップコート法を用いて、従来の単結晶膜の成膜速度に比べ2000倍以上も速い、実用にも耐える2.4m/分を超える高速で、平坦で均一性に優れた多結晶膜の成膜に成功しました。10cm角基板に作製した多結晶膜を用いたトランジスタは、平均移動度4cm2/Vs を超え、素子間のバラつきも小さいです。本セミナーでは有機半導体技術の現状と合わせて、本最新の研究成果についてご紹介します。 |
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